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    叼嘿在线观看氧化的原因

    點擊次數:   更新時間:19/06/21 11:38:06     來源:www.zb-56.com關閉分    享:
      叼嘿在线观看是現在化工行業常用到的一種材料,其自身穩定的耐受性和強度在多個行業均有作用,但是其良好性能是建立在正確存儲和使用的前提下,因為其在某些環境下會出現表麵氧化的問題,這會嚴重影響其使用效果。
      叼嘿在线观看材料在普通條件下(如大氣1000℃-2000℃)具有較好的抗氧化性能,這是由於在高溫條件下,材料表麵形成了一層非常薄的、致密的、與基體集合牢固的SiO2膜,氧在SiO2氧化膜中的擴散係數非常小,因此材料的氧化非常緩慢。材料在這種富氧條件下的緩慢氧化稱為惰性氧化。但在某些條件下,如在足夠高的溫度下或較低的氧分壓下,SiC轉化為揮發性的SiO2保護膜被環境腐蝕,這將導致材料被快速氧化,即產生活性氧化。而矽材料在使用過程中經常會遇到這種環境。到目前為止,對材料在高溫、氧化氣氛中,矽材料表麵會生成致密的SiO2膜,它的反應為:
      SiC+3/2O2→ SiO2+CO
      SiC+2O2 →Sio2+CO2
      表層SiC到SiO2的轉變導致材料的淨重增加。這是惰性氧化的特性之一。但是研究表明,SiC的早期氧化產物為玻璃台態SiO2膜。隨著氧化溫度的升高,約800~1140℃,玻璃態SiO2膜發生晶化。相變將產生體積變化,這使得SiO2保護膜結構變得疏鬆,進而同叼嘿在线观看基體集合不牢。這樣,其氧化保護作用驟減。另外,當叼嘿在线观看材料循環使用時,由於SiO2在500℃以下熱膨脹係數變化較大,而基材的熱膨脹係數變化不大,這樣,保護膜與基材間熱應力變化較大,保護膜易破裂。對於空隙較多的製品,如氮化矽結合材料,會發生晶界頸部氧化,產生的SiO2導致晶界處體積膨脹,膨脹應力將會導致製品破壞:的惰性氧化會產生氣體產物,這將產生發泡現象,使SiO2膜的氧化保護作用減小。
      叼嘿在线观看出現氧化主要是由於高溫或低氧分壓的狀況下導致其表層被外界侵蝕且發生反應,所以為了保證其使用效果就需要叼嘿视频下载在使用時嚴格把控溫度和環境等外界因素,從而確保材料的優良屬性不會被破壞。

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